Methoxypropanolen ethyleenglycolether behoren tot binaire alcoholetheroplosmiddelen, die kleurloze en transparante vloeistoffen zijn. De toxiciteit van propyleenglycolether voor het menselijk lichaam is lager dan die van ethyleenglycoletherproducten en behoort tot de weinig giftige ethers. Propyleenglycolmethylether heeft een zwakke ethergeur, maar geen sterke penetrante geur, waardoor het op grotere schaal wordt gebruikt en veilig is. Omdat de moleculaire structuur zowel een ethergroep als een hydroxylgroep bevat, heeft het een uitstekende oplosbaarheid, een geschikte vervluchtigingssnelheid en reactieactiviteit, en wordt het op grote schaal gebruikt. Het wordt voornamelijk gebruikt als uitstekend oplosmiddel voor nitrocellulose, alkydhars en maleïnezuuranhydride-gemodificeerde fenolhars, als antivriesmiddel voor vliegtuigbrandstof en als additief voor remvloeistof; Het wordt voornamelijk gebruikt als oplosmiddel, dispergeermiddel en verdunningsmiddel, maar ook als antivriesmiddel en extractiemiddel voor brandstof.
|
Chemische formule |
C4H10O2 |
|
Exacte massa |
90 |
|
Moleculair gewicht |
90 |
|
m/z |
90 (100.0%), 91 (4.3%) |
|
Elementaire analyse |
C, 53.31; H, 11.18; O, 35.51 |
|
|
|
De bereidingswijze vanMethoxypropanol(meestal nauwkeuriger aangeduid als propyleenglycolmonomethylether) wordt als volgt beschreven:
(1) Grondstofvoorbereiding:
Verkrijg epichloorhydrine en methanol als reactanten.
Bereid een katalysator voor, bestaande uit diatomeeënaarde ingebed met ijzerchloride. Onder hen is het gewicht van ijzerchloride 2% van het gewicht van epichloorhydrine.
(2) Apparaatinstellingen:
Kies een container die geschikt is voor reacties onder hoge-druk en hoge- temperatuur, zoals een hoge-drukreactor.
Zet een temperatuur- en drukcontrolesysteem op voor het reactievat om een nauwkeurige controle van de reactietemperatuur en -druk te garanderen.
(1) Grondstoffen mengen:
Meng epoxypropaan en methanol gelijkmatig in een molaire verhouding van 1:3.
(2) Katalysator toevoegen:
Voeg de bereide diatomeeënaarde-katalysator ingebed met ijzerchloride toe aan het reactiemengsel.
(3) Verwarmingsreactie:
Verwarm het reactiemengsel tot 190 graden.
Handhaaf de reactiedruk op 1,5 MPa (of 1500 kPa).
De reactietijd bedraagt 50 minuten.
Vacuümdestillatie: Nadat de reactie is voltooid, wordt het reactiemengsel onderworpen aan vacuümdestillatie om propyleenglycolmonomethylether af te scheiden.
Destillatie onder verminderde druk helpt de destillatietemperatuur te verlagen, waardoor de ontleding van warmtegevoelige producten wordt verminderd.
(1) Bepaling van de opbrengst: De opbrengst aan propyleenglycolmonomethylether werd bepaald door wegen of andere geschikte methoden, en de opbrengst was 98,2%.
(2) Zuiverheidstests: gebruik chromatografie of andere analytische technieken om de zuiverheid van het product te testen en een zuiverheid van 99,1% te verkrijgen.
De toepassing vanMethoxypropanol(ook bekend als 1-methoxy-2-propanol, afgekort als PGME) in halfgeleiderfotoresist is een belangrijk en gespecialiseerd vakgebied onder de vele toepassingen ervan. Fotoresist is een onmisbaar materiaal in het halfgeleiderproductieproces en wordt voornamelijk gebruikt voor de microfabricage van geïntegreerde schakelingen en discrete halfgeleiderapparaten. Het heeft ook een breed scala aan toepassingen in de productieprocessen van platte beeldschermen, LED's, flip-flops, magnetische koppen en precisiesensoren. Propyleenglycolmethylether speelt als belangrijke oplosmiddelcomponent van fotoresist een cruciale rol in de prestaties en het productieproces van fotoresist.
Fotoresist, ook wel fotoresist genoemd, bestaat uit hoofdcomponenten en oplosmiddelen. Het belangrijkste oplosmiddel dat momenteel voor fotolak wordt gebruikt, is propyleenglycolmethyletheracetaat (PMA), maar propyleenglycolmethylether (PGME) wordt in sommige fotolakformuleringen ook gebruikt als oplosmiddel of hulpoplosmiddel. De belangrijkste componenten van fotoresist zijn hars, monomeren, foto-initiatoren en additieven. Onder hen is het harsgehalte verantwoordelijk voor ongeveer 50% tot 60% van de hoofdcomponenten, en het monomeergehalte voor ongeveer 35% tot 45%. Het principe van fotoresist is om lichtbronnen zoals ultraviolet licht, excimeerlaser, elektronenbundel, ionenbundel, röntgenstraling, enz. te gebruiken om te bestralen of uit te stralen, waardoor een verandering in de oplosbaarheid wordt veroorzaakt, waardoor het gewenste patroon op de siliciumwafel wordt gevormd.
2. De rol van propyleenglycolmethylether in fotoresist
(1) Oplosmiddelactie:
Propyleenglycolmethylether wordt voornamelijk gebruikt als oplosmiddel in fotoresist. Het kan vaste fotosensibilisatoren en additieven oplossen om een vloeibaar mengsel te vormen, waardoor een goede stroombaarheid van de fotoresist wordt gegarandeerd. Deze vloeibaarheid is cruciaal voor de uniforme coating van fotoresist op het waferoppervlak door middel van spincoatingtechnologie.
(2) Viscositeit aanpassen:
De toevoeging van propyleenglycolmethylether kan de viscositeit van fotoresist aanpassen, waardoor deze geschikter wordt voor specifieke coatingprocessen. Een juiste aanpassing van de viscositeit zorgt voor een uniforme verdeling van de fotoresist tijdens het coatingproces, waardoor het ontstaan van luchtbellen en defecten wordt vermeden.
(3) Verbetering van de coatingprestaties:
Propyleenglycolmethylether heeft een matige vluchtigheid en kan tijdens het coatingproces snel verdampen, waardoor een uniforme en dichte fotoresistfilm achterblijft. Dit helpt de hechting en corrosieweerstand van fotoresist te verbeteren.
(4) Invloed op lithografie-effect:
Sommige fysische en chemische eigenschappen van propyleenglycolmethylether, zoals kookpunt, oplosbaarheid en oppervlaktespanning, kunnen een zekere invloed hebben op het lithografische effect van fotoresist. Een geschikt kookpunt kan er bijvoorbeeld voor zorgen dat de fotoresist het patroon tijdens de belichting niet vervormt als gevolg van de snelle verdamping van het oplosmiddel.
3. Specifieke toepassing van propyleenglycolmethylether in halfgeleiderfotoresist
(1) Hoogwaardige fotoresist:
In hoogwaardige fotoresist kan propyleenglycolmethylether worden gebruikt als hulpoplosmiddel of additief. Deze fotoresists worden doorgaans gebruikt om halfgeleiderapparaten te vervaardigen met een hogere integratie en complexere structuren. De toevoeging van propyleenglycolmethylether kan de coatingprestaties en het lithografische effect van fotoresist verbeteren, waardoor de opbrengst en prestaties van apparaten toenemen.
(2) ArF-fotoresist:
ArF-fotoresist is een van de belangrijkste materialen die worden gebruikt voor de productie van halfgeleiderapparaten met procesknooppunten van 7 nm en lager.
Propyleenglycolmethylether kan worden gebruikt als oplosmiddel of additief in ArF-fotoresist om de coatingprestaties en het lithografische effect ervan te verbeteren. ArF-fotoresist heeft extreem hoge oplosmiddelvereisten en bepaalde eigenschappen van propyleenglycolmethylether maken het een geschikte keuze.
(3) Andere soorten fotoresist:
Naast ArF-fotoresist kan propyleenglycolmethylether ook worden gebruikt in andere soorten fotoresist, zoals KrF-fotoresist, i-line-fotoresist, enz. Deze fotoresists hebben verschillende toepassingsbereiken en procesvereisten in het halfgeleiderproductieproces. De toevoeging van propyleenglycolmethylether kan de prestaties en het coatingeffect van fotoresist aanpassen aan specifieke behoeften.
4. De invloed van propyleenglycolmethylether op het productieproces van halfgeleiders
(1) Verbetering van de productie-efficiëntie:
De toevoeging van propyleenglycolmethylether kan de coatingprestaties en het lithografische effect van fotoresist verbeteren, waardoor de productie-efficiëntie van halfgeleiderapparaten wordt verbeterd. Uniforme coating en duidelijke lithografiepatronen helpen defecten en herbewerkingspercentages te verminderen, waardoor de productiecycli worden verkort.
(2) Verlaag de productiekosten:
Door het formulerings- en coatingproces van fotoresist te optimaliseren, kunnen de productiekosten van halfgeleiderapparaten worden verlaagd. Als een van de belangrijke componenten van fotoresist kan het rationele gebruik van propyleenglycolmethylether onnodig afval en verliezen verminderen, waardoor de productiekosten worden verlaagd.
(3) Verbetering van de apparaatprestaties:
De verbetering van de fotoresistprestaties door propyleenglycolmethylether helpt de prestaties van halfgeleiderapparaten te verbeteren. Een uniformere coating en duidelijkere lithografiepatronen kunnen bijvoorbeeld parasitaire parameters zoals weerstand en capaciteit van het apparaat verminderen, en de prestaties zoals snelheid en energieverbruik verbeteren.
(4) Bevordering van technologische modernisering:
Met de voortdurende ontwikkeling van de halfgeleidertechnologie nemen ook de eisen aan fotoresist toe. De introductie van nieuwe oplosmiddelen en additieven zoals propyleenglycolmethylether kan de modernisering en vooruitgang van de fotoresisttechnologie bevorderen, waardoor meer innovatie- en ontwikkelingsmogelijkheden op het gebied van de halfgeleiderproductie ontstaan.
Methoxypropanol, als een van de belangrijke componenten van halfgeleiderfotoresist, heeft brede toepassingsmogelijkheden en voordelen in het halfgeleiderproductieproces. Door het formulerings- en coatingproces van fotoresist te optimaliseren, kunnen de productie-efficiëntie en prestaties van halfgeleiderapparaten worden verbeterd en kunnen de productiekosten worden verlaagd. De milieu- en veiligheidskwesties moeten echter ook voldoende aandacht krijgen. In de toekomst, met de voortdurende ontwikkeling van halfgeleidertechnologie en het toenemende bewustzijn van milieubescherming, zal de introductie van nieuwe oplosmiddelen en additieven zoals propyleenglycolmethylether de modernisering en vooruitgang van fotoresisttechnologie bevorderen, waardoor er meer innovatie- en ontwikkelingsmogelijkheden komen op het gebied van de halfgeleiderproductie. Tegelijkertijd is het ook noodzakelijk om het onderzoek naar en het toezicht op de bescherming en veiligheid van het milieu te versterken, om de duurzame ontwikkeling van het halfgeleiderproductieproces en de veiligheid van personeel en milieu te garanderen.
Veelgestelde vragen
Waar wordt methoxypropanol voor gebruikt?
+
-
Methoxypropanol wordt voornamelijk gebruikt bij de vervaardiging van propyleenglycolmethyletheracetaat (ook wel bekend als PMA) en wordt ook gebruikt in industriële en commerciële producten, waaronder verven, vernissen, inkten, kunsthars- en rubberkleefstoffen, en auto- en ovenreinigers.
Is methoxypropanol giftig?
+
-
1-Methoxy-2-propanol is een milde giftige stof. De toxiciteit is lager dan die van de methyl-, ethyl- en butylethers van ethyleenglycol. De toxische symptomen bij het inademen van hoge concentraties zijn misselijkheid, braken en algemene verdovende effecten. Bij mensen kunnen toxische effecten worden gevoeld bij blootstelling aan een niveau van 3000–4000 ppm.
Waar wordt methoxyisopropanol voor gebruikt?
+
-
Het primaire gebruik van Methoxyisopropanol isbij verven. Andere namen voor methoxyisopropanol zijn onder meer 1-methoxy-2-hydroxypropaan, 1-methoxy-2-propanol en propyleenglycolmonomethylether (PGME).
Waar wordt methoxypropaan voor gebruikt?
+
-
Op de markt gebracht onder de handelsnamen Metopryl en Neothyl, werd methoxypropaan gebruiktals alternatief voor diethylethervanwege zijn grotere potentie. Het gebruik ervan als verdovingsmiddel is sindsdien verdrongen door moderne gehalogeneerde ethers die veel minder brandbaar zijn.
Waar wordt methoxyfenol voor gebruikt?
+
-
Er worden methoxyfenolen gebruiktbij de vervaardiging van antioxidanten en farmaceutische producten. 2- Methoxyfenol wordt gebruikt als slijmoplossend middel en in synthetische smaakstoffen.
Is propanol schadelijk voor de mens?
+
-
Echter,Er is slechts één geval van dodelijke vergiftiging door 1-propanol gemeld. The most likely acute effects of 1-propanol in man are alcoholic intoxication and narcosis. The results of animal studies indicate that 1-propanol is 2 - 4 times as intoxicating as ethanol. 1-Propanol may be irritating to hydrated skin.
Wat zijn de bijwerkingen van Methoxyisopropanol?
+
-
Kan slaperigheid of duizeligheid veroorzaken. H226 Ontvlambare vloeistof en damp. H336 Kan slaperigheid of duizeligheid veroorzaken. P210 Verwijderd houden van hitte, hete oppervlakken, vonken, open vuur en andere ontstekingsbronnen.
Populaire tags: methoxypropanol cas 107-98-2, leveranciers, fabrikanten, fabriek, groothandel, kopen, prijs, bulk, te koop